3D
SIGGRAPH 2023
내재적 오차 지표를 이용한 표면 단순화
Author
Venue
SIGGRAPH 2023
Abstract
본 논문은 표면 메쉬를 신속하게 단순화하는 방법을 설명한다. 기존 방법들이 시각적 외관에 중점을 둔 반면, 우리의 목표는 표면상의 방정식을 해결하는 것이다. 따라서 외재적 기하학을 근사하는 대신, 입력 영역에 대한 거친 내재적 삼각 분할을 구축한다. 2차 곡면 오차 측정법(QEM)의 취지에 따라, 근사 오차에 대한 전역 정보를 집계하면서 탐욕적 감축을 수행한다. 그러나 외재적 2차 곡면 대신, 단순화 과정에서 곡률이 얼마나 "이동"하는지 추적하는 내재적 접선 벡터를 저장합니다. 이 과정은 또한 정밀 메쉬와 거친 메쉬 간의 일대일 대응 맵과, 스칼라 및 벡터 값 데이터 모두에 대한 연장 연산자를 제공합니다. 게다가, 내재적 재삼각화를 통해 요소 품질에 대한 확실한 보증을 얻는데, 이는 내재적 설정에서만 가능한 특징입니다. 그 결과, 방정식 해법에 사용되는 행렬의 크기와 메쉬 해상도를 분리하는 "블랙박스" 방식의 기하 처리 접근법을 얻을 수 있다. 본 논문에서는 기하학적 멀티그리드, 모든 쌍에 대한 지오데식 거리, 평균 곡률 흐름, 지오데식 보로노이 다이어그램, 이산 지수 매핑 등 여러 기초적인 작업에서 본 방법이 어떻게 이점을 제공하는지 보여준다.
